Arnošt Reiser

Biografie / Fyzikální chemie

*5.7.1920 (Praha) – †4.8.2015 (New York), významný český fyzikální chemik, pedagog. Pocházel z židovské rodiny majitele sladovny. Za okupace v roce 1942 prošel ghettem v Terezíně a na podzim 1944 koncentračním táborem v Osvětimi. Po válce zahájil studium botaniky, ale nakonec přešel na chemii. Absolvoval VŠCHT a v roce 1951 se stal vedoucím katedry fyzikální chemie. Emigroval v létě 1960 s rodinou a přáteli přes NDR na výletní lodi Seebad Albeck do Dánska. V listopadu téhož roku se přestěhoval do Anglie, kde žil dalších téměř 25 let a pracoval v oboru fotochemie pro společnost Eastman Kodak a zabýval se také výzkumem blednutí barev.  Poté přijal nabídku na práci v USA, kde se stal ředitelem Ústavu zobrazovacích věd na Polytechnické univerzitě v New Yorku. Zabýval se fotorezisty, podílel se na zdokonalování technologie mikrolitografie, používané při výrobě integrovaných obvodů – mikročipů. Jeho objev využití infračerveného laseru pro výrobu začaly používat společnosti jako Kodak-Polychrome, Agfa, Fuji a Mitsubishi. Ve vědě byl aktivní až do svého vysokého věku. Napsal autobiografickou prózu Útěk: Paměti 1920–1991 (Academia, 2003) a Život s vědou 1939–2009 (VŠCHT, 2010).

Vytvořeno: 24. 10. 2008
Aktualizováno: 5. 7. 2020
Autor: -red-